Purion H200は、当社の技術の粋を集めた枚葉式ウェハ高電流中エネルギーイオン注入装置であり、市場で唯一の本格的な高電流中エネルギー注入装置です。本装置は、業界で最もエネルギー範囲が広く、10 keV～230 keVに対応しています。Purion H200は、Purion Hの先進的なビームライン技術とPurion Mの高エネルギー機能を用いて、高電流出力と中電流精度を実現しています。

純度

当社独自の角度式エネルギーフィルターは、金属をフィルター濾過する用のAxcelisのハイブリッドフィルターアーキテクチャに基づいて設計された当社独自の角度式エネルギーフィルター構造によりれ、エネルギーコンタミネーションをフィルターし、強力な排気能力によりフォトレジストのアウトガスの影響を抑えます。

精度

Purion H200には正確な角度でビームを照射するVectorドーズ量・角度制御システムと、高角度においてもサブストレートの上下位置を問わず同一のドーズ量を確保する当社独自の定点距離スキャン機能が装備されています。

生産性

高電流ビームライン、中電流加速管、ターミナル構造を組み合わせることで、中エネルギーイオン注入の分野で比類ない生産性を実現します。