고객과의 협력으로 개발된 Purion 이온 주입기 제품군은 10nm 이하 팹 공정과 관련된 현재와 미래의 어려움을 해결하도록 제작되었습니다. 21세기 아키텍처에 기반한 Purion 플랫폼은 최고 수준의 순도, 정밀도 및 생산성(Purity, Precision and Productivity)을 최소한의 비용으로 제공할 수 있는 독자적인 구현기술로 설계되었습니다.
단일 플랫폼을 공유하는 설비
모든 Purion 이온 주입기는 3가지 혁신적인 빔라인 테크놀로지를 갖춘 공통의 고성능 플랫폼을 기반으로 합니다. 이를 통해 가장 까다로운 최신 High Current, Medium Current 및 High Energy 응용분야의 요구를 충족하도록 최적화가 이루어진 표준화 장비 및 제어의 운영 효율성을 누릴 수 있게 됩니다.
높은 생산성과 뛰어난 일관성
Purion 플랫폼은 최신 설계를 통해 최대 500WPH의 생산량을 제공하여 생산성을 극대화합니다. 진정한 단일 웨이퍼 플랫폼인 Purion은 배치 주입기로는 달성할 수 없는 수준의 일관성과 재현성을 보장합니다.
고객의 요구를 반영한 맞춤형 설계
특별한 이온 주입 또는 공정 요구 사항이 있습니까? Axcelis 엔지니어는 귀사의 정확한 요구에 맞게 Purion 주입기를 최적화할 수 있도록 협력 개발할 수 있습니다. Purion 플랫폼은 고객 요구사항의 변화에 맞게 함께 발전하여 미래에 대한 투자가치를 보장합니다.
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