가장 넓은 범위로 중전류 이온 주입량을 선택할 수 있는 Purion M 이온 주입기는 최근 진화하는 이온 주입 요건을 충족할 수 있는 탁월한 유연성을 제공합니다. 경쟁사의 이온 주입기 성능을 능가하는 고에너지 공정능력을 갖춘 Purion M은 공정변화가 많거나 무거운 이온 주입공정이 필요한 팹에 이상적입니다. 그럼에도 에너지 효율은 경쟁 플랫폼보다 20% 더 높아서 비용을 업계 최저 수준으로 유지할 수 있습니다.

순도(Purity)

자기필터 및 전기필터를 함께 사용하는 하이브리드 빔라인 설계는 모든 에너지에서 최고의 금속 오염제어 성능을 보장합니다 – 이미지 센서 응용분야에 이상적입니다.

정밀도(Precision)

최신 각도 제어 기능은 수평 각도와 수직 각도 모두에서의 정밀한 측정 및 제어 기능을 제공합니다. Axcelis만의 일정한 단초점 스캐닝은 웨이퍼 표면 전체에 걸쳐 일관성이 유지되도록 정밀하게 조정된 빔 선량, 각도, 에너지 및 밀도를 제공합니다.

생산성(Productivity)

당사의 독자적인 EternaTM ELS 소스는 업계에서 가장 넓은 에너지 범위(2KeV~1MeV)를 제공하므로 탁월한 주입 효율성이 보장됩니다. Purion 고속 엔드스테이션을 사용하면 최대 500WPH의 생산량 달성이 가능합니다. Purion M은 가동 중인 팹에서 가장 높은 Al+ 빔 전류와 독자적인 고온 주입(최대 650°C) 기능으로 SiC 도핑 응용분야에서 업계 최고의 생산성을 제공할 수 있습니다.